Химическая очистка оборудования

Химическая очистка оборудования, в первую очередь, теплоэнергетического (котлов, теплообменников, систем отопления, чиллеров, резервуаров и другого емкостного оборудования ), является необходимой предпусковой и/или эксплуатационной мерой. Цель этой процедуры — удаление с внутренней поверхности труб и резервуаров посторонних веществ — окалины, ржавчины, солей.

Отложения возникают при применении некачественного теплоносителя, использовании излишне жесткой (минерализованной) воды без ее предварительного смягчения, при некорректной настройке параметров работы системы. Их наличие приводит к уменьшению коэффициента полезного действия аппарата, к повышению температуры его поверхности, возможному перегреву, интенсификации коррозионных процессов, повышению эксплуатационных расходов. Выход один — химическая очистка оборудования.

Общие сведения о процедуре

Основной задачей химической очистки оборудования является превращение труднорастворимых соединений на поверхности агрегатов в растворимые, а также их последующее удаление. 

• щелочи и соединения на их основе (к примеру, едкий натр или тринатрийфосфат) удаляют рыхлые продукты коррозии металла, смазочные материалы и некоторые другие соединения;
• составы на основе минеральных кислот (в первую очередь, соляной) удаляют  соли магния и кальция, а также результаты коррозии железа;
• средства на основе органических кислот (щавеливой и других) в процессе химической очистки оборудования удаляют соли магния и кальция, а также результаты коррозии железа.

Химическая очистка оборудования может быть предпусковой или эксплуатационной. Предпусковая заключается в удалении из новой системы загрязнений: сварочного града, окалины, песка, масел, набивочных материалов. Эксплуатационная химическая очистка оборудования удаляет отложения, образовавшиеся в процессе работы агрегата. Так как загрязнения в разных случаях отличаются друг от друга по количеству и составу, то и способ их устранения, а также выбор реагента для каждого конкретного объекта индивидуален.

Качественно проведенная химическая очистка оборудования должна обеспечивать полное удаление отложений с поверхности агрегата при минимальном на нее воздействии.